5.3.6 HFSS 电压源激励、电流源激励和磁偏置激励

    5.3.6 电压源激励

    电压源激励（Voltage…）是定义在两层导体之间的平面上，用理想电压源来表示该平面上的电场激励。定义电压源激励时，需要设置的参数有电压的幅度、相位和电场的方向，如图5.43 所示。

图 5.43 电压源激励设置对话框

     在使用电压源激励时，用户需要注意以下两点。

    （1）电压源激励所在的平面必须远小于工作波长，且平面上的电场是恒定电场。

    （2）电压源激励是理想的源，没有内阻，因此后处理时不会输出 S 参数。

    5.3.7 电流源激励

    电流源激励（Current…）定义于导体表面或者导体表面的缝隙上，需要设定的参数有导体表面/缝隙的电流幅度、相位和方向，如图 5.44 所示。

图 5.44  电流源激励对话框

    和电压源激励一样，在使用电流源激励时，用户也需要注意以下两点。

    （1）电流源激励所在的平面/缝隙必须远小于工作波长，且平面/缝隙上的电流是恒定的。

   （2）电流源激励是理想的源，没有内阻，因此后处理时不会输出 S 参数。

    5.3.8 磁偏置激励

    当 HFSS 设计中使用到铁氧体材料时，需要通过设置磁偏置激励（Magnetic Bias…）来定义铁氧体材料网格的内部偏置场；该偏置场使铁氧体中的磁性偶极子规则排列，产生一个非零的磁矩。如果应用的偏置场是均匀的，张量坐标系可以通过旋转全局坐标系来设置；如果应用的偏置场是非均匀的，不允许旋转全局坐标来设置张量坐标系。均匀偏置场的参数可 以由 HFSS 直接输入，而非均匀偏置场的参数需要从其他的静磁求解器（如 Ansoft Maxwell 3D 软件）导入。