天线阵综合的一些小总结

1. 众所周知单对一个面阵或一个圆柱阵来说，控制好单元的间距，可以防止栅瓣的出现，一般对于面阵当选取单元间距小于半个波长时，可以保证阵列在扫描到90度的范围内都不出现栅瓣，若扫描角要求小于90度，间距可以适当增大，这也是单元间距通常这样选取的原因。
2. 如果单元间距选取得过大，以致出现了栅瓣，由于栅瓣在出现的空间位置上所有单元同相叠加使得栅瓣在能量分布上和主瓣没有任何区别，即能量的大小上完全相同，只不过两者对应的空间位置不同而已，严重者栅瓣出现位置可与与主瓣很近，导致在整个空间内几乎都是栅瓣，这对于天线来说是致命的，（对于扫描天线若出现此类情况，意味着在多个方向上都收到了等功率的信号，将无法识别物体具体在哪个空间位置），这也丧失了天线定向辐射定向接收的设计目的。
3. 如果单元间距选取得恰当，防止了栅瓣在实空间的出现，（也就是我们所在的能感知的空间），即在实空间内除了主瓣出现的位置以外其余位置单元的贡献都不是同相叠加，且不同位置相位叠加不同，但相对于主瓣，这些位置的能量分布都受到了削弱，从而可以通过对单元激励幅值的优化控制其他位置的能量分布，综合出所需的方向图。企图通过此方法抑制栅瓣是无用的，因为栅瓣位置与主瓣位置都是同相叠加，对于某种特定的幅度激励分布两者的能量分布还是一样。
4. 当把平面阵和圆柱阵放在一起形成一个新的阵列时，为了充分利用两者的优势，不应该使任何一个出现栅瓣，因为当其中任何一个出现栅瓣时，他对另一个阵列的贡献就相当于在各个方向上都加了一个相同的能量值，想达到降低副瓣电平的目的，就只能靠对另一个未出现栅瓣的阵列进行优化。
5. 当保证两个阵列都不出现栅瓣时，便可通过对激励幅值的优化实现降低副瓣的目的。具体的说，就是要求在保证两个阵列最大辐射方向一致的情况下，控制其他位置的能量分布，只不过此时必须考虑另一个阵列的影响，他可能会使原本在面阵中反向叠加的位置变成同相叠加，同相叠加的仍同相叠加，使得其相对于某个阵列来说副瓣电平变高，但对整个阵列来说此位置仍是副瓣，不会出现栅瓣，但矛盾都是相对的，有劣势也必有优势，因为也会出现原来同相叠加的位置形成反向叠加，使得整个副瓣电平在此位置降低，这就是保证两个阵列最大辐射方向一致的设计初衷。这也就可以像对面阵副瓣电平压缩那样压缩新阵列的副瓣电平，从而实现对方向图的综合。

好贴，之前做过一个阵列天线   没考虑过这么多方面的问题，所以效果就不太好，而且很难调