请教!
楼上的wyg朋友你好,首先非常欢迎来到本论坛,希望你下次提问的时候能把问题提的“复杂”一点,你现在这样的提问有时很难得到别人的回答,如果你把你碰到的问题说明的详细点,或许会有更多人来讨论,从而互相学习,互相进步!
再来说说你的问题:因为我最近仿真周期结构时候,也用到了PML和master/slave边界条件,但是由于缺少这方面的资料,也一直没有设置正确,只能是通过自己不断调试,其中我觉得pml的厚度层数设置肯定是一个问题,这个可以请教一下做fdtd的同学,他们肯定会设置过这个边界条件,而且在微带结构的仿真上好像pml要设置两层,分别对应金属贴片和基片,在help中也有这么一句话:The material of the corresponding base object touching the PML is not homogenous. An example is a metal-shielded microstrip line with a substrate. One PML could be drawn to terminate the microstrip and another could correspond to the substrate不知道这句的正确理解是什么?
暂且就说这么几句。
非常希望更多朋友,不管是懂的或是不懂的,只要对此有兴趣,来参与这个pml的讨论!
PML还没有遇到,看看大家的看法待会去看看资料
个人想法:
PML和RAD边界在一般情况下是可以通用的.只是后者更简单,容易使用,并且在10以后的版本中后者还有了高级使用功能,比如 rad , enforce field ,inccome field 个人建议在仿真时还是使用后者,PML边界是对RAD边界的加强和补充,在对大扫描角度的天线进行仿真时最好用它,起使用比较麻烦,观察远场时还要做list face 处理.我做过很多的验证这两个边界可以混用.
PML我在之前的帖子里说过一些,按照asoft官方的说法,PML可以做近场截断,而Rad只能远场截断。不过在目前的仿真过程中,还没有发现PML的优越性。
另:PML在Base Face Radiation Properties里也有Rad的advanced options设置。
好像听人说过拥PML 算喇叭要比用rad更精确一些 不知道是不是 这样子