求助 linecalc中H的参数意思。
05-08
在ADS中的 linecalc中的H 代表的是真个板子的厚度还是 microstrip 到参考地的距离?
比如说我的班子是FR4材质,4层的,总厚度1.6mm, 我的微带线走TOP层,参考地打算用第三层的,那么我TOP层到第三层的距离是1.4mm,
那么我在linecalc中的H到底是用1.6mm,还是用1.4mm,我看很多资料中都说H是板子的厚度。那么他们的意思是不是说他们的微带线如果走TOP层,那么参考地就是bottom层呢? 否则H应该按照参考哪层就用哪层的H来算呢?
谢谢大家了啊
比如说我的班子是FR4材质,4层的,总厚度1.6mm, 我的微带线走TOP层,参考地打算用第三层的,那么我TOP层到第三层的距离是1.4mm,
那么我在linecalc中的H到底是用1.6mm,还是用1.4mm,我看很多资料中都说H是板子的厚度。那么他们的意思是不是说他们的微带线如果走TOP层,那么参考地就是bottom层呢? 否则H应该按照参考哪层就用哪层的H来算呢?
谢谢大家了啊
microstrip 到参考地的距离
本文来自:微波仿真论坛http://bbs.rfeda.cn -- 最专业的微波射频通信交流论坛
非常感谢 john_li的热情帮助
顶呀.
基片的厚度吧好像
我还是认为应该是到reference GND的高度
介质基板的厚度
这个应该是到参考地的距离, 你用特定的 H 算阻抗,你再用其他工具算一下就知道了,是到refer GND的距离
赞同
电磁计算时是到参考地的距离·
赞同
绝对是电磁计算时是到参考地的距离·
Er:微带线介质基片的相对介电常数
Mur:微带纤介质基片的相对磁导率
H:微带线介质基片厚度
Hu:微带电路的封装高度
T:为电线金属片的厚度
Cond:微带线金属片的电导率
TanD:微带线的损耗角正切
Rough:微带线的表面粗糙度
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