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请问两个端口的扫参结果合成问题,谢谢

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建模时并排建了两个相同的天线,分别用了port1和port2,要扫的参数是两个天线的距离,要看频率一定时距离变化对两个天线方向图合成结果的影响。
请问:1.扫参时怎样同时得到各个天线的方向图变化呢?
           2.怎样得到两个天线方向图的合成结果呢?
新手上路,不胜感激!

微波EDA (www.mweda.com) 网友回复:

  • 网友回复

    个人认为:
    两个单元的方向图是一样的,那么我们对单个仿真的方向图不就是每个阵元的方向图?
    然后乘以阵因子不就是整个阵列的方向图?
    我们把距离设成变量进行扫描不是就得到了一个和距离的变化相关的整个阵列的方向图吗?
  • 网友回复

    非常感谢~~~~~~~~~~~~
  • 网友回复

    建模时并排建了两个相同的天线,分别用了port1和port2,要扫的参数是两个天线的距离,要看频率一定时距离变化对两个天线方向图合成结果的影响。
    请问:1.扫参时怎样同时得到各个天线的方向图变化呢?
               2 ... 说的很对,其实就是个相位的问题
    不过你说的方法应该是要建立在两个天线互偶很小的情况下,
    若互偶很严重的话就应该通过仿真计算来得到准确的方向图
    至于扫参怎么得到方向图,我也没试过。
  • 网友回复

    扫参的时候的方向图确实不能显示出来,我曾经试过,不过好像可以分别导出每一个角度的扫参结果然后再用别的软件处理一下。

申明:网友回复良莠不齐,仅供参考。如需专业解答,推荐学习李明洋老师的CST培训视频,或咨询本站专家

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